ZhETF, Vol. 142,
No. 5,
p. 873 (November 2012)
(English translation - JETP,
Vol. 115, No. 5,
p. 769,
November 2012
available online at www.springer.com
)
ИССЛЕДОВАНИЕ УЗКОПОЛОСНОГО N-РЕЗОНАНСА, ФОРМИРУЕМОГО В ТОНКИХ АТОМАРНЫХ СЛОЯХ РУБИДИЯ
Саргсян А., Мирзоян Р., Саркисян Д.
Received: April 3, 2012
Исследован узкополосный N-резонанс, формируемый в Λ-системе атомов рубидия D1-линии, при наличии буферного газа неона и излучения двух непрерывных узкополосных диодных лазеров. Использовались специальные ячейки, с помощью которых исследовалась зависимость процесса от толщины L столба паров в милли-, микро- и нанометровой областях. Проведенное сравнение зависимостей N-резонанса и резонанса электромагнитно-индуцированной прозрачности (ЭИП) от L показали: минимальная (рекордно малая) толщина, при которой регистрируется N-резонанс составляет L=50 мкм, в то время как контрастный ЭИП-резонанс легко формируется даже при нм. Показано, что N-резонанс в магнитном поле для атомов 85 Rb расщепляется на пять или шесть компонент (в зависимости от направлений магнитного поля и лазерного излучения). Полученные результаты указывают на то, что в формировании N-резонанса начальным и конечным уровнями являются нижние уровни Fg=2,3. Проведено исследование зависимости N-резонанса от угла между лазерными пучками. Отмечены практические применения.
|
|