ЖЭТФ, Том 139,
Вып. 6,
стр. 1182 (Июнь 2011)
(Английский перевод - JETP,
Vol. 112, No 6,
p. 1035,
June 2011
доступен on-line на www.springer.com
)
МОДЕЛИРОВАНИЕ ab initio ЭЛЕКТРОННОЙ СТРУКТУРЫ δ- Ta2 O5 С КИСЛОРОДНОЙ ВАКАНСИЕЙ И СРАВНЕНИЕ С ЭКСПЕРИМЕНТОМ
Иванов М.В., Перевалов Т.В., Алиев В.Ш., Гриценко В.А., Каичев В.В.
Поступила в редакцию: 25 Июня 2010
Теоретически и экспериментально изучена электронная структура диэлектрика Ta2 O5 с вакансиями кислорода. Проведены расчеты ab initio δ- Ta2 O5 в рамках теории функционала плотности в обобщенно-градиентном приближении GGA и приближении GGA+U. Экспериментально электронная структура аморфного Ta2 O5 исследована методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. Для изучения вакансий кислорода пленки аморфного Ta2 O5 облучались ионами аргона. Расчетные фотоэлектронные спектры валентной зоны δ- Ta2 O5 находятся в удовлетворительном согласии с соответствующими экспериментальными спектрами аморфных пленок. Установлено, что вакансия кислорода в δ- Ta2 O5 является ловушкой для дырок и электронов. Рассчитаны минимальные и максимальные значения эффективных масс электронов и дырок в δ- Ta2 O5.
|
|