МОДЕЛИРОВАНИЕ ab initio ЭЛЕКТРОННОЙ СТРУКТУРЫ δ- Ta₂ O₅ С КИСЛОРОДНОЙ ВАКАНСИЕЙ И СРАВНЕНИЕ С ЭКСПЕРИМЕНТОМ
Иванов М.В., Перевалов Т.В., Алиев В.Ш., Гриценко В.А., Каичев В.В.

Received: June 25, 2010

DJVU (140.8K)

PDF (405K)

Теоретически и экспериментально изучена электронная структура диэлектрика Ta₂ O₅ с вакансиями кислорода. Проведены расчеты ab initio δ- Ta₂ O₅ в рамках теории функционала плотности в обобщенно-градиентном приближении GGA и приближении GGA+U. Экспериментально электронная структура аморфного Ta₂ O₅ исследована методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. Для изучения вакансий кислорода пленки аморфного Ta₂ O₅ облучались ионами аргона. Расчетные фотоэлектронные спектры валентной зоны δ- Ta₂ O₅ находятся в удовлетворительном согласии с соответствующими экспериментальными спектрами аморфных пленок. Установлено, что вакансия кислорода в δ- Ta₂ O₅ является ловушкой для дырок и электронов. Рассчитаны минимальные и максимальные значения эффективных масс электронов и дырок в δ- Ta₂ O₅.