ZhETF, Vol. 158,
No. 4,
p. 738 (October 2020)
(English translation - JETP,
Vol. 131, No. 4,
p. 645,
October 2020
available online at www.springer.com
)
Механизмы резонансного вложения мощности в магнитоактивную плазму высокочастотного разряда
Карташов И.Н., Кузелев М.В.
Received: March 24, 2020
DOI: 10.31857/S0044451020100168
Рассмотрено возбуждение и поглощение волн в магнитоактивной плазме высокочастотного разряда в условиях, когда частота генератора меньше электронной циклотронной частоты. Обсуждаются случаи безграничной плазмы и ограниченной плазмы в цилиндрической геометрии. Рассмотрены различные режимы возбуждения плазменных волн, различающихся законом дисперсии и поляризацией поля. Мощность, вкладываемая в плазму, зависит от распределения возбуждающих разряд токов внешнего источника и от параметра плотности, характеризующего плотность плазмы и поперечные размеры системы. В наиболее интересном с практической точки зрения случае плазменного цилиндра со свободной поверхностью или плазменного цилиндра, находящегося в достаточно большом проводящем кожухе, в плазме имеются только потенциальные и непотенциальные косые ленгмюровские волны E-типа, а также сильно непотенциальная поверхностная волна. Последняя практически не возбуждается внешними токами, текущими по поверхности цилиндра при реально используемых параметрах системы. При больших значениях параметра плотности эффективное сопротивление плазмы при индуктивном способе возбуждения разряда оказывается доминирующим. При умеренных и малых значениях наиболее эффективным является емкостной способ возбуждения волны токами на поверхности плазменного цилиндра.
|
|