Анизотропная намагниченность пленки NbN
Гохфельд Д.М., Савицкая Н.Е., Попков С.И., Кузьмичев Н.Д., Васютин М.А., Балаев Д.А.

Поступила в редакцию: 7 Декабря 2021

DOI: 10.31857/S0044451022060062

PDF (653.9K)

Проведено исследование структурных и магнитных свойств пленки нитрида ниобия (NbN), изготовленной методом реактивного распыления на кварцевую подложку. Методом сканирующей электронной микроскопии показано, что пленка имеет столбчатую структуру с диаметром кристаллитных столбцов около 50 нм. Измерены петли намагниченности пленки для ориентации поля параллельно и перпендикулярно ее поверхности. На основе полученных данных сделана оценка величин плотности критического тока пленки для обоих случаев. Для случая поля, параллельного поверхности пленки, оценка дает величину 6.5• 10⁴ A/cм² при температуре жидкого гелия. Для случая поля, перпендикулярного поверхности пленки, плотность критического тока близка к величине плотности тока распаривания 10⁷ A/cм². Анализ полученных результатов с применением различных моделей пиннинга магнитных вихрей в сверхпроводниках показывает, что в первом случае пиннинг происходит на границах столбцов в объеме образца, а во втором случае он обусловлен влиянием поверхностного барьера.