ЖЭТФ, Том 131,
Вып. 6,
стр. 963 (Июнь 2007)
(Английский перевод - JETP,
Vol. 104, No 6,
p. 839,
June 2007
доступен on-line на www.springer.com
)
ДИССИПАТИВНАЯ СВЕТОВАЯ МАСКА ДЛЯ АТОМНОЙ ЛИТОГРАФИИ, СОЗДАННАЯ НЕОДНОРОДНО ПОЛЯРИЗОВАННЫМ ПОЛЕМ
Прудников О.Н., Тайченачев А.В., Тумайкин А.М., Юдин В.И.
Поступила в редакцию: 16 Октября 2006
PACS: 32.80.Pj, 42.50.Vk
Проведен анализ локализации атомов в глубоком оптическом потенциале на основе полностью квантового описания движения атомов в рамках кинетического уравнения для матрицы плотности. Показано, что лазерное охлаждение нейтральных атомов в глубоком оптическом потенциале при относительно большой отстройке светового поля от резонанса может быть использовано как альтернативный недиссипативным световым маскам метод формирования пространственно-локализованных атомных структур с высоким контрастом для целей атомной литографии.
|
|
Золотые страницы
DJVU (96K)
PDF (313.1K)